1200℃雙管滑動式單溫區(qū)/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品用途：

此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計，特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔

電極方面的研究，通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。

產(chǎn)品組成：

CVD系統(tǒng)配置：

1、1200度開啟式真空管式爐（可選配單溫區(qū)及雙溫區(qū)）。

2、滑動系統(tǒng)分為手動、電動滑動，并配有風(fēng)冷系統(tǒng)。

3、內(nèi)外雙石英管，采用真空可通氣氛雙法蘭特殊連接。

4、多路氣體流量控制系統(tǒng)（質(zhì)子流量控制器和浮子流量控制器）

5、真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）

1200℃雙管滑動式單溫區(qū)/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品特點：

1、控制電路選用模糊PID程控技術(shù)，該技術(shù)控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。

2、中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統(tǒng)采用高壓強，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統(tǒng)使用壽命。

3、(電動)滑動系統(tǒng)采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成，爐體按設(shè)定的速度滑動，因有滑動限位功能，爐體不會發(fā)生碰撞，待樣品露出爐體后，通過風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫。

4、雙管真空密封法蘭，反應(yīng)氣體可以在內(nèi)外管之間發(fā)生反應(yīng)，冷卻氣體可通過內(nèi)管，從而使內(nèi)管外壁溫度降低。

產(chǎn)品圖片：

技術(shù)參數(shù)：